現在，世界半導體工業(yè)發(fā)達國家已經使用石英坩堝。具有純度高、耐高溫、體積大、精度高、保溫性好、節(jié)能、質量穩(wěn)定等優(yōu)點。
　　1.石英坩堝可在1450度以下使用，分為透明和不透明兩種。錦州坩堝電弧法制備的半透明石英坩堝是研制大型集成電路必不可少的基礎材料。
　　2.它不能接觸高頻。在高溫下，錦州坩堝易與苛性鈉和堿金屬碳酸鹽反應。
　　3.石英易碎，易破碎，使用時要注意。
　　4.除氫氟酸外，可用普通稀無機酸作清洗液。
　　目前，石英坩堝生產中的涂層技術已被大多數廠家采用。錦州坩堝涂層技術分為冷涂層和熱涂層。其目的主要是防止硅與石英坩堝在單晶硅高溫拉伸過程中發(fā)生反應，提高結晶速率。如需了解更多詳情，請關注本公司。